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Park Systems 通过对传统 AFM 架构与成像模式的革新，在科研与先进制造领域建立起高端优势，从机械根源解决成像不准、样品易损问题，实现纳米级高精度、无伪影、无损量化测量。

一、核心技术原理：精准与无损，从结构开始

XY/Z 轴独立解耦扫描器传统 AFM 一体式扫描器易产生轴间串扰与图像畸变。Park 采用样品台 XY 扫描 + 探针 Z 轴独立驱动架构，从根源消除串扰，大尺度扫描仍可保持亚纳米级平整度与高线性度，数据真实可靠。

非接触模式 Non-Contact常规敲击模式易损伤样品、损耗针尖。Park 以高灵敏度的反馈机制使针尖在样品上方 2–5nm 稳定悬浮，仅依靠范德华力成像，实现软质样品、二维材料、EUV 掩模的零损伤检测，同时大幅延长针尖寿命。

SICM 扫描离子电导显微以电解液纳米管为探针，通过离子电流变化实现闭环控制，实现零力成像，可在液体环境中长期观测活细胞，无压迫、无损伤。

二、工业 / 科研应用

面向先进半导体制程用于 CMP 粗糙度、FinFET 与深沟槽结构 3D 计量；

EUV 光刻掩模缺陷三维分析；

实现形貌与电学、磁学表征；

生物医疗，用于活细胞与纳米药物表征。

三、Park AFM 核心价值总结

Park 不只是纳米观测设备，更是一套可量化、高稳定计量系统。对科研而言，数据真实可复现；对工业而言，可 24 小时稳定运行、无损质控、提升良率。从原子级表面到先进制程在线计量，Park 让纳米尺度研究与生产更精准可靠。