主营业务： 半导体及电子制造： 物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、干法刻蚀、灰化设备、离子注入及快速热处理系统。 显示技术： 全球领先的面板溅射设备（Sputtering）、蒸镀设备及掩模板封装方案。 核心零部件： 全系列高真空泵（干泵、分子泵、油泵）、真空计、氦质谱检漏仪、成膜控制器及表面分析测试仪器。

主营业务： 工业级AFM： 专为 200mm 和 300mm 晶圆产线设计的全自动原子力显微镜（如 NX-Wafer），用于化学机械抛光（CMP）后的表面形貌监控及粗糙度分析。 科研级AFM： NX系列扫描探针显微镜，广泛用于基础科研与纳米材料开发。 综合计量方案： 结合白光干涉仪（WLI）的光学测量模块、纳米级红外光谱分析系统（Nano-IR）及高灵敏度主动隔振系统。

主营业务：时间频率同步设备、 高性能MEMS加速度计、陀螺仪、压力传感器；MEMS代工服务（Tronics）；高精度光电瞄准及定位系统；特种半导体热处理与电子组装工艺方案。

主营业务： 激光干涉仪（业界标准）、白光干涉仪（光学轮廓仪）、超精密光学元件（透镜、平面镜）；半导体光刻机掩模检测系统、晶圆平整度测量方案。 应用领域： 为半导体光刻系统、AR/VR光学组件、深空探测天文望远镜等提供极限精度级别的检测支持。

主营业务：光学显微镜、扫描电子显微镜、X射线显微镜、共聚焦显微镜。

主营业务： SMR系列气相刻蚀设备（特别是 HF 和 XeF2 气相干法蚀刻）、自组装单分子层（SAM）沉积技术；以及针对 MEMS 研发的定制化工艺开发。

主营业务： 卧式及立式扩散炉、LPCVD（低压化学气相沉积）；特种气体系统；外延生长设备及用于电力电子（如碳化硅、氮化镓）的热处理方案。 应用领域： 广泛应用于功率半导体、MEMS、光伏以及先进逻辑芯片的基础工艺环节。