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1952年成立于日本,是享誉全球的真空技术领军企业。业务横跨半导体、新型显示、功率器件、新能源、冷冻干燥及生物医药等多个前沿领域。
主营业务:
半导体及电子制造: 物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、干法刻蚀、灰化设备、离子注入及快速热处理系统。
显示技术: 全球领先的面板溅射设备(Sputtering)、蒸镀设备及掩模板封装方案。
核心零部件: 全系列高真空泵(干泵、分子泵、油泵)、真空计、氦质谱检漏仪、成膜控制器及表面分析测试仪器。
1952年成立于日本,是享誉全球的真空技术领军企业。业务横跨半导体、新型显示、功率器件、新能源、冷冻干燥及生物医药等多个前沿领域。
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半导体及电子制造: 物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、干法刻蚀、灰化设备、离子注入及快速热处理系统。
显示技术: 全球领先的面板溅射设备(Sputtering)、蒸镀设备及掩模板封装方案。
核心零部件: 全系列高真空泵(干泵、分子泵、油泵)、真空计、氦质谱检漏仪、成膜控制器及表面分析测试仪器。
1952年成立于日本,是享誉全球的真空技术领军企业。业务横跨半导体、新型显示、功率器件、新能源、冷冻干燥及生物医药等多个前沿领域。
主营业务:
半导体及电子制造: 物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、干法刻蚀、灰化设备、离子注入及快速热处理系统。
显示技术: 全球领先的面板溅射设备(Sputtering)、蒸镀设备及掩模板封装方案。
核心零部件: 全系列高真空泵(干泵、分子泵、油泵)、真空计、氦质谱检漏仪、成膜控制器及表面分析测试仪器。
1952年成立于日本,是享誉全球的真空技术领军企业。业务横跨半导体、新型显示、功率器件、新能源、冷冻干燥及生物医药等多个前沿领域。
主营业务:
半导体及电子制造: 物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、干法刻蚀、灰化设备、离子注入及快速热处理系统。
显示技术: 全球领先的面板溅射设备(Sputtering)、蒸镀设备及掩模板封装方案。
核心零部件: 全系列高真空泵(干泵、分子泵、油泵)、真空计、氦质谱检漏仪、成膜控制器及表面分析测试仪器。
1952年成立于日本,是享誉全球的真空技术领军企业。业务横跨半导体、新型显示、功率器件、新能源、冷冻干燥及生物医药等多个前沿领域。
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半导体及电子制造: 物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、干法刻蚀、灰化设备、离子注入及快速热处理系统。
显示技术: 全球领先的面板溅射设备(Sputtering)、蒸镀设备及掩模板封装方案。
核心零部件: 全系列高真空泵(干泵、分子泵、油泵)、真空计、氦质谱检漏仪、成膜控制器及表面分析测试仪器。
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