NLD-570 NLD等离子刻蚀系统

NLD-570真空干法NLD等离子刻蚀设备采用负载锁定式自动传样设计，一体化机身结构。选用NLD上电极，实现低压放电、高密度、低电子温度的等离子体。可搭载ESC静电吸附，基片冷却更加均匀。兼容2-8英寸样片，适用于Si、石英、玻璃、LN/LT基板加工，具有优异的刻蚀形貌和光滑度，工艺精确度高，易于清洁和维护。