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TSD化学机械抛光系统提供高精度的表面抛光能力。适用于晶圆、蓝宝石等多种材料的平面化处理。抛光均匀性好，表面粗糙度低。
微纳加工、先进封装、异质结构
支持4/6/8英寸样片
抛光压头自转&摆动驱动系统
配置红外测温系统， 保证抛光盘温度恒定
可配置半自动 Loading上下片系统
外气囊加压、纳米级去除
PC系统摩擦力&温度监测系统
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