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CS-200 射频磁控溅射系统

射频磁控溅射系统,多功能薄膜制备

CS-200射频磁控溅射系统配备高功率射频电源,支持金属、介质、化合物等多种材料溅射。大容量真空腔体,支持批量生产。

应用领域:

光学薄膜、电子器件、功能涂层

核心特点

  • 高功率射频电源
  • 多种材料溅射能力
  • 大容量腔体
  • 批量生产支持
  • 优异的薄膜均匀性
  • 工艺稳定性高
产品信息
  • 品牌 ULVAC
  • 型号 CS-200
  • 类别 薄膜制备
  • 领域 光学薄膜、电子器件

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