EVG 610 接触式曝光系统 – 慧创科学官网

EVG610接触式曝光系统

完成光刻曝光、掩模对准、键合对准、软压印等工艺。紧凑型多功能掩模对准系统，高精度、多模式、易操作，一站式满足光刻与键合对准研发需求。

应用领域：

半导体、MEMS、先进封装、科研与小批量生产

核心特点

支持最大200mm晶圆，双面/红外对准
真空/软/硬/接近式多种曝光模式
可选UV-LED光源，低耗长效免维护
高精度自动楔角补偿，工艺切换快
兼容键合对准与纳米压印（NIL）

品牌 EVG
型号 EVG610
类别曝光、掩膜对准
领域半导体、先进封装
MEMS

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