PHI GENESIS 500 全自动多功能扫描聚焦 XPS

PHI GENESIS 500 全自动多功能扫描聚焦 XPS

该设备是全自动多功能扫描聚焦 X 射线光电子能谱仪,集成微区 XPS、AES、UPS、深度剖析等多技术平台,支持≤5μm 微区精准分析与全自动多样品测试。

本表征设备操作简便,扩展性强,可快速完成材料表面元素、化学态、薄膜深度与能带结构表征。

应用领域:

电池、半导体、光伏、新能源、有机器件、催化、金属、陶瓷。

核心特点

  • 全自动高效操作
    全流程自动化样品传输与分析,一键完成测试,界面直观友好,大幅降低操作门槛。
  • 微区高精度分析
    配备 **≤5μm 聚焦 X 射线束斑 **,搭配 SXI 二次电子影像,实现精准定位与微区扫描分析。
  • 多功能技术集成
    支持 XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 团簇刻蚀等多技术联用,满足全面表面分析。
  • 快速深度剖析
    高灵敏度探测 + 高效离子刻蚀 + 双束中和,可实现薄膜 / 多层材料全自动深度剖面分析。
  • 多样品兼容适配
    支持 3 个样品托、最大 80mm×80mm 大托盘,可测粉末、绝缘体、复杂形貌样品。
  • 高扩展性与附件
    丰富原位选配模块(加热 / 冷却、离子源、样品传输等),适配多场景材料表征需求。
产品信息
  • 品牌 ULVAC-PHI
  • 型号 PHI GENESIS 500
  • 类别 扫描聚焦XPS
  • 领域 电池 半导体 光伏 催化

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