蔡司GeminiSEM系列
为对任意样品进行高水准的成像和分析而生
蔡司GeminiSEM 系列产品具有出色的探测效率，能够轻松地实现亚纳米分辨成像。无论是在高真空还是在可变压力模式下，更高的表面细节信息灵敏度让您在对任意样品进行成像和分析时都具备更佳的灵活性，为您在材料科学研究、生命科学研究、工业实验室或是显微成像平台中获取各种类型样品在微观世界中清晰、真实的图像，提供灵活、可靠的场发射扫描电子显微镜技术和方案。
运用GeminiSEM系列产品，您可轻松获取真实世界中任意样品出色的图像和可靠的分析结果
GeminiSEM 500 具有出色的分辨率，在较低的加速电压下仍可呈现给您更强的信号和更丰富的细节信息，其创新设计的NanoVP可变压力模式，甚至让您在使用时拥有在高真空模式下工作的感觉；
GeminiSEM 450 具有出色的易用性设计、更快的响应和更高的表面灵敏度，使其能快速、灵活、可靠地对样品进行表面成像和分析，充当您的得力助手；
GeminiSEM 300 具有出色的分辨率、更高的衬度和更大且无畸变的成像视野，可方便地选取适合样品的真空度等环境参数，使FESEM初学者也能快速掌握；
产品
轻松地对任意样品进行亚纳米分辨成像的场发射扫描电子显微镜，更灵敏、更灵活、更简单、更智能。
更强的信号，更丰富的细节
GeminiSEM 500 为您呈现任意样品表面更强的信号和更丰富的细节信息，尤其在低的加速电压下，在避免样品损伤的同时快速地获取更高清晰度的图像。
经优化和增强的Inlens探测器可更好地采集信号，助您快速地获取清晰的图像，并使样品损伤降至更低；
在低电压下拥有更高的信噪比和更高的衬度，二次电子图像分辨率1 kV达0.9nm，500 V达1.0 nm，无需样品台减速即可进行高质量的低电压成像，为您呈现任意样品在纳米尺度上更丰富的细节信息；
应用样品台减速技术-（Tandem decel），可在1 kV下获得高达0.8nm二次电子图像分辨率；
创新设计的可变压力模式-NanoVP技术，让您拥有身处在高真空模式下工作的感觉。
更高的速度与灵敏度，更好的成像和分析
GeminiSEM 450更快的响应和更高的表面灵敏度使其能快速、灵活、可靠地对样品进行表面成像和分析，简便、快速地进行EDS能谱和EBSD等分析，同时保持出色的空间分辨率，充当您的得力助手。
在EDS能谱和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像，在低电压条件下工作时更为优异；
可快速地对样品进行大范围及高质量成像；
经优化的电子光学镜筒，减少了工作过程中进行重新校准的复杂流程，节省成像时间，提高工作效率；
无论是不导电样品、磁性样品或是其他类型的样品，无论是高真空或是可变压力模式，均可实现快速和高质量的成像和分析；
更灵活的成像方式
无论是资深用户还是初学者，GeminiSEM 300将让您体验到在更高的分辨率和更佳的衬度下进行极大视野范围成像的乐趣，并且在高真空或是可变压力模式下都可以实现。
得益于优异的信号采集系统和优异的分辨率性能，可实现快速、高质量、无畸变的大范围成像；
创新设计的高分辨率电子枪模式，为对磁性样品、不导电样品以及电子束敏感样品的低电压成像量身订制解决方案；
蔡司独树一帜的镜筒内能量选择背散射探测器，在低电压下也可轻松地获得高质量的样品材料衬度图像；
NanoVP技术让您可以使用镜筒内Inlens二次电子探测器对要求苛刻的不导电样品进行高灵敏度、高分辨成像。
Gemini 1 –成熟的Gemini技术概览
场发射扫描电子显微镜具有更高的分辨率，离不开其性能优异的电子光学镜筒。蔡司Gemini技术专为对任意样品进行高分辨成像设计，尤其在低电压下保持完整和优异的探测系统、出色的分辨率和易用性等特点。
蔡司Gemini电子光学镜筒具有以下三个主要特点
蔡司Gemini物镜的设计结合了静电场和磁场，在提高其电子光学性能的同时将它们对样品的影响降至更低。无漏磁物镜设计，可以对如磁性材料等极具挑战的样品同样地进行高品质成像；
蔡司Gemini电子束推进器技术，让电子束经过加速后以高电压通过镜筒，最终再减速至设定电压后进入样品仓，很大程度地减小电子束的像差，保证了在非常低的加速电压下仍可获得小束斑和高信噪比；
蔡司Gemini 镜筒的设计理念将Inlens二次电子（SE）和背散射电子（BSE）探测器均放置在镜筒内正光轴上，使两者均具有更高的信号采集效率且可以同时成像，有效的缩短了获取图像的时间，更好地提高工作效率。
蔡司Gemini技术优势能为您提供以下便利：
经校准后的镜筒具有长期的稳定性，您在日常使用时只需要简易地设定基本的参数，如加速电压、探针电流等；
无漏磁的物镜设计，可对包括磁性样品在内的各类型样品进行无畸变、高分辨率的成像；
Inlens二次电子探测器具有优异的SE 1信号采集效率，给您呈现来自样品极表面的真实形貌图像；
镜筒内能量过滤背散射探测器以其创新的设计理念，使您在低电压下可获得高分辨率、高衬度、以及更真实的样品材料衬度图像。
