ESZ-R 大腔室高真空蒸发镀膜设备

Batch式高真空蒸发设备，可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作，适用于研究开发及少量生产 

蒸发材料：金属，ITO，二氧化硅等材料

产品特点：

• 金属，合金，非金属，化合物等材料的高品质蒸发镀膜

• 球形腔室，直径可达φ1100mm

• 腔室到达真空度可达3.0E x 10^-5Pa

• 镀膜精度高

• 蒸发镀膜的纯度高，附着力强

• 镀膜的均匀性好，重复性优异

• 可配置离子源进行表面处理或辅助沉积

• 配置热阻蒸发，省材料

• 可搭配最多8组750W加热灯

• 适合TiOx、Al2O3、HfO2、SiO2、MgF2等光学介质薄膜

• 更多的挂片量

• 可支持氧气通入成膜

• 上位通信，材料扫描功能

• 2～12inch，不定型片，方片蒸发