磁中性环路放电刻蚀机 (NLD ETCHING SYSTEM)

研究开发向NLD干法刻蚀设备NLD-570，是搭载了爱发科独创的磁性中性线（NLD- neutral loop discharge）等离子源的装置，此NLD技术可实现产生低压、低电子温度、高密度的等离子。

产品特点：

• NLD用于与ICP方式相比更低压、高密度、更低电子温度等离子体的石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。

• 高硬玻璃、硼硅酸玻璃等不纯物的多种玻璃加工，在形状或表面平滑性方面有优异的刻蚀性能。

• 石英及玻璃作为厚膜resist mask时的也可实现深度刻蚀（100μ m以上）。

• 可实现高速刻蚀（石英＞1μ m/min、Pyrex＞0.8μ m/min）。

• 可追加cassette室。

● 低压放电、高密度、更低电子温度的等离子体，适用于Si、石英、玻璃、水晶、LN/LT基板的加工。

● 适用于高硬度材料蚀刻加工，在形状、深度和光滑性等方面有突出优势。

● 石英及玻璃作为厚膜resist mask层时也可实现深度刻蚀。

● 8英寸向下兼容，带有load-lock设计，设备一体化程度高，占地面积小。

● 高刻蚀速率（Si＞300nm/min；LN＞100nm/min）。

● 搭载了星型电极及各种调温功能，确保工艺均匀性、稳定性和重复性。

● 有效降低刻蚀污染情况，确保工艺准确，且设备构造简单便于清洁和维护。

应用领域：

• 光学器件（光衍射格子、変调器、光开关等等）；

• 凹凸型微透镜；

• 流体路径作成或光子学结晶。